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大型HMDS真空烘箱，4門HMDS真空烤箱 是半導體光刻工藝中的關鍵設備，主要用于基片表面預處理，通過六甲基二硅氮烷（HMDS）涂布增強光刻膠與基片的黏附性。

硅烷沉積設備 抗粘劑蒸鍍系統 納米抗粘設備通過表面修飾的模板,可以大大降低模板與壓印聚合物層之間的相互作用力,在納米壓印過程中實現結構較好的轉移,復制.

抗黏劑蒸鍍機 抗粘劑涂膠機 硅烷氣相鍍膜機通過精確控制烘箱溫度（100-200℃）、處理時長及保持時間等參數，使氮烷（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷...

抗粘劑蒸鍍機 硅烷鍍膜機氣相沉積系統硅烷偶聯劑（HMDS六甲基二硅胺烷、乙烯基三甲氧基硅烷、PFTS三濾硅烷等）作為一類重要的有機硅化合物，在材料表面改性、復合...

疏水處理設備疏水性處理系統 HMDS預處理是一種改善物體表面性質的技術，使其具有疏水性，即不易被液體濕潤。

表面疏水性處理設備陶瓷玻璃疏水處理機通過氣相涂布硅烷偶聯劑HMDS實現陶瓷表面疏水性能的提高，陶瓷表面接觸角為118?135度，且疏水材料與陶瓷基體的的附著性能...

納米陶瓷材料表面疏水HMDS處理系統生產工藝周期短，提高生產效率；修飾液用量極少，節約成本90%；閉環的工藝過程，安全系數高。

可程式HMDS真空 烘箱HMDS真 空烘箱用于光刻膠粘合的 HMDS 氣相沉積晶圓基底脫水烘烤

HMDS氣相成底膜烘箱真空HMDS氣相烘箱在晶圓上行噴涂hmds預處理的工藝，將晶圓表面親水性的置換為疏水性的，使晶圓表面接觸角達到65或更高。

HMDS預處理機H-2智能HMDS真空烘箱為半導體應用的光刻膠粘合促進劑工藝設備，

掩膜版HMDS真空烘箱hmds烤箱使基底表面由親水性變為疏水性，增強表面的黏附性（HMDS-六甲基二硅胺烷）。適用于硅片、麟化銦、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、...

HDMS烘箱HDMS真空烘箱HDMS預處理烘箱保護裝置：緊急停止，HMDS藥液泄漏報&警提示，HMDS低液位報&警，超溫保護，漏電保護，過熱保護等

HMDS真空系統 HMDS預處理系統 圖像反轉烘箱可快速、均勻、經濟高效地用六甲基二硅烷 (HMDS) 對晶圓表面進行底漆處理，從而改善光刻膠的附著力。

HMDS烘箱圖像反轉系統 HMDS涂膠機使用HMDS（六甲基二硅氮烷）對晶圓表面進行快速、均勻、經濟高效的涂布，以提高光刻膠的附著力。這些多功能系統還支持圖像反...

光刻膠HMDS烘箱HMDS疏水處理烘箱應用多晶硅，石英，太陽能電池片、金屬、貴金屬、藍寶石、SiC(碳化硅)、磷化銦、GaN(氮化鎵)、ZnO（氧化鋅）、GaO...

HMDS烘箱專用真空泵，HMDS系統無油泵較小的噪音-一臺干泵卻擁有較好的真空度，較大的抽速-停機時間短，維護成本更低

HMDS疏水烘箱，HMD真空烘箱是涂膠前對硅片表面進行處理，可以增加硅片表面水分子的接觸角，使襯底表面從親水性轉化為疏水性

光伏電池片HMDS處理系統，HMDS預處理烘箱就是涂膠前要進行增粘處理。由于襯底表面吸水特性，使疏水的光刻膠無法與親水的晶圓表面結合良好。未經過HMDS表面處理...

HMDS烘箱，太陽能電池片HMDS烘箱適用行業：MEMS、太陽能、電池片、濾波、放大、功率等器件，晶圓、玻璃、貴金屬，SiC(碳化硅)、GaN(氮化鎵)、ZnO...

HMDS烘箱真空泵，HMDS烘箱無油泵真空干泵具有(50dBA)和低振動運行的，密封設計(真空區與電機和軸承全隔開) 可提供潔凈的泵內氣體環路;從而消除了油或油...